HA-D
采用康铜箔/伊文箔和特种聚酰亚胺薄膜层压而成，全密封结构，具有蠕变自补偿和温度自补偿功能；剥离强度高，基底刚性强，收缩率低，具有良好的蠕变一致性、重复性，回零、滞后性能优越；耐潮性、耐湿性能力强，有良好的阻值稳定性和可靠性；动态响应性能好；基底具有一定的韧性；适用于C3及以上级别高精度传感器。 用伊文箔制作还可实现弹性模量自补偿，也可实现小尺寸大阻值，用于制作高阻低功耗产品。
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详细介绍
| 产品形式 | 产品型号 | 敏感栅尺寸（长*宽）（mm) | 基底尺寸（长*宽）（mm) | 蠕变标号 | 栅距（mm) | 合金 |
| HA-D | 350-2HA-D(**)* | 2.0*2.5 | 7.2*6.3 | 可选 | 康铜合金 | |
| HA-D | 350-3HA-D(**)* | 3.1*4.0 | 9.5*7.8 | 可选 | 康铜合金 | |
| HA-D | 350-3HA-D-L(**)* | 2.9*6.3 | 10.5*9.0 | 可选 | 康铜合金 | |
| HA-D | 350-8HA-D(**)* | 8.0*9.0 | 13.0*14.4 | 可选 | 康铜合金 | |
| HA-D | 1000-3HA-D(**)* | 3.1*5.4 | 10.7*7.8 | 可选 | 康铜合金 |
* 可根据产品需求定制相应尺寸。
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