HA-F
采用康铜箔/伊文箔和特种聚酰亚胺薄膜层压而成,全密封结构,具有蠕变自补偿和温度自补偿功能;剥离强度高,基底刚性强,收缩率低,具有良好的蠕变一致性、重复性,回零、滞后性能优越;耐潮性、耐湿性能力强,有良好的阻值稳定性和可靠性;动态响应性能好;基底具有一定的韧性;适用于C3及以上级别高精度传感器。 用伊文箔制作还可实现弹性模量自补偿,也可实现小尺寸大阻值,用于制作高阻低功耗产品。
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详细介绍
产品形式产品型号敏感栅尺寸(长*宽)(mm)基底尺寸(长*宽)(mm)蠕变标号栅距(mm)备注
HA-F350-1HA-F(**)*1.0*2.75.2*3.1可选
伊文合金
HA-F350-1HA-FS(**)*1.0*2.34.5*3.1可选
伊文合金
HA-F700-1.5HA-F(**)*1.5*3.86.1*4.0可选
伊文合金
HA-F700-4HA-F(**)*3.8*2.57.5*7.5可选
伊文合金
HA-F1000-1HA-F(**)*1.0*3.76.6*3.5可选
伊文合金
HA-F1000-1.5HA-F(**)*1.5*3.66.6*4.2可选
伊文合金
HA-F1000-2HA-F(**)*2.0*4.26.2*4.7可选
伊文合金


* 可根据产品需求定制相应尺寸。
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