KA-B
采用康铜箔/伊文箔和特种聚酰亚胺薄膜层压而成,全密封结构,具有蠕变自补偿和温度自补偿功能;剥离强度高,基底刚性强,收缩率低,具有良好的蠕变一致性、重复性,回零、滞后性能优越;耐潮性、耐湿性能力强,有良好的阻值稳定性和可靠性;动态响应性能好;基底具有一定的韧性;适用于C3及以上级别高精度传感器。 用伊文箔制作还可实现弹性模量自补偿,也可实现小尺寸大阻值,用于制作高阻低功耗产品。
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详细介绍
产品形式产品型号敏感栅尺寸(长*宽)(mm)基底尺寸(长*宽)(mm)蠕变标号栅距(mm)备注
KA-B350-5.2KA-B(**)*∅4.6∅5.2可选
伊文合金
KA-B350-6KA-B(**)*∅5.3∅5.9可选
伊文合金
KA-B350-10KA-B(**)*∅9.2∅10.0可选
伊文合金
KA-B500-4.8KA-B(**)*∅4.5∅4.8可选
伊文合金
KA-B1000-7KA-B(**)*∅6.8∅9.9可选
伊文合金
KA-B1000-10KA-B(**)*∅9.4∅10.0可选
伊文合金


* 可根据产品需求定制相应尺寸。
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